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脑机融合新突破：中国团队推出多功《能通用》涂层方案中新网北京8月21日电 (记者 孙自法)记者8月21日从中国科学院理化技术研究所(理化所)获悉，中国科研团队最近在脑机接口领域的长效神经融合脑机界面研究上取得重要进展，研发出一款多功能阳离子交替肽电极界面涂层(OG)，基于该涂层改性的柔性神经电极，在动物模型中完成多项突破性验证，将为超长期服役、可无损更换的临床级脑机接口提供通用解决方案。
新研发的交替肽涂层兼顾优异生物相容性、广谱抗菌、抗蛋白与离子黏附、强效抑制异物反应四大特性，且不破坏电极电化学性能。同时，该涂层具备较强通用性，为长效脑机接口、迷走神经刺激、神经传感、植入式医用电子设备临床转化开辟了新的可行路径。
多功能聚氨基酸脑机界面神经融合示意图。中国科学院理化所 供图
这项脑机接口材料研发的重要进展，由中国科学院理化所生物材料与应用技术研究中心张维团队联合首都医科大学北京天坛医院孟凡刚团队、中国科学院上海微系统与信息技术研究所孙鎏炀团队，以及脑虎科技(NeuroXess)等合作者共同完成，相关论文近日在国际专业学术期刊《先进材料》(Advanced Materials)上发表。
研究团队介绍，脑机接口是神经医学、康复工程与人工智能交叉领域的前沿颠覆性技术，是开展脑科学基础研究、攻克重度神经损伤、运动功能障碍以及难治性神经精神疾病的重要工具，已成为全球科技战略竞争的前沿赛道。
电极与脑组织之间的神经融合界面是脑机接口临床转化的核心关键环节，直接决定设备使用寿命、信号采集精度与临床安全，是实现长期稳定神经记录、闭环精准神经调控的根基，也是制约脑机接口真正惠及广大病患的关键技术壁垒。植入电极侵入脑组织会破坏血脑屏障，诱发持续的异物免疫炎症反应，逐步形成胶质瘢痕，造成电极周边神经元丢失，最终导致设备功能失效，这也是当前全球脑机接口临床应用面临的共性难题。
当前，业内脑机接口临床试验还暴露出界面技术的短板：首例受试者植入3个月，电极丝因脑部异物免疫反应发生回缩，有效采集通道大幅衰减、信号质量大幅下滑。而现阶段柔性基底、导电高分子、单一功能修饰涂层等技术仅能改善某一项缺陷，无法同步实现长效抑菌、抑制生物污损、削弱免疫排斥、稳定电学性能、电极无损回收等五项临床刚需，因此成为脑机接口落地临床卡点。
这次成功研发的多功能阳离子交替肽电极界面涂层，其多肽修饰材料可适配硅、金、聚酰亚胺、医用聚氨酯等多种植入器械基底，通过表面共价接枝形成超薄修饰层，通过适度高电势活性与氢键水合屏障实现多重功能协同，不改变电极本身力学与电学属性。
长期神经记录、调节及脑组织生物学评价结果。中国科学院理化所 供图
研究团队将修饰后的柔性电极植入大脑运动皮层开展长达300天连续在体电生理测试，对比裸电极实现多项核心性能跨越：裸电极植入90天有效记录通道大幅衰减，300天无法捕捉神经元放电信号；修饰电极植入满300天有效工作通道无衰减，神经元动作电位幅值持续维持在155微伏(μV)以上。在神经刺激调控层面性能提升尤为突出，植入300天后，普通裸电极需要100微安(μA)大电流才能诱发微弱肢体运动，而修饰电极仅需2微安即可触发明显运动反馈，神经调控综合效率提升50倍。
进一步实验证实，新研发的多功能涂层有效阻止“生物粘连”，电极完整无损取出，脑组织无大面积损伤；脑组织免疫染色显示，改性电极周边星形胶质细胞、巨噬细胞数量仅为裸电极组1/5左右，电极500微米(μm)范围内神经元密度接近健康脑组织，解决了传统电极周边“神经元荒漠”难题。
研究团队表示，通过整合转录组、空间转录组多组学解析分子机制表明，多功能涂层的交替肽修饰显著抑制补体、炎症通路，恢复神经递质释放、钠钾离子通道、突触可塑性相关基因表达，将宿主组织响应由促炎损伤状态重塑为修复稳态微环境，可从分子层面解释长效稳定记录、低刺激阈值的内在机理。(完)
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温州8月28日电(邵燕飞 张益聪)东海之滨，瓯江之畔。2026民营经济创新发展大会暨知名民企助力浙江高质量发展活动9月8日—9日将在浙江温州盛大启幕。大会以“创新聚势·赋能未来”为主题，届时将云集全国头部民企掌门人、知名专家、顶尖科研机构及金融机构代表等600余位重量级嘉宾，共话创新之道、共谋增长新篇。 本届大会会址地——温州园博园中国馆。主办方 供图 当创新驱动跃升为高质量发展的核心引擎，民营企业正以科技为笔、以创新为墨，奋力书写新质生产力的时代答卷。本次大会实地考察、主旨大会、产业对接环环相扣，多项民企创新成果发布、项目落地，形成“1+3+2+3”的大会议程亮点。 “1”是一场主旨大会：9月9日上午，2026民营经济创新发展大会将在温州市园博园国际会议中心隆重举行，本次大会由全国工商联、浙江省人民政府共同主办，将汇聚国家部委、地方政府，以及产学研各方等众多重量级嘉宾，为民营经济擘画创新蓝图、注入澎湃动能。大会期间还将同步推出“浙里创新万物生长”成果展，全景展现浙江民营经济发展活力与创新生态优势。 “3”是大会将集中发布的三大权威成果：《2026研发投入前1000家民营企业创新状况报告》《2026民营企业研发投入、发明专利500家榜单》，以及“2026年民营企业发展新质生产力案例”，并同步启动民营经济标准创新周。 其中，《2026研发投入前1000家民营企业创新状况报告》围绕研发投入、创新载体、知识产权、标准化、转化应用、国际竞争六大维度对民营企业创新状况进行系统评估；民营企业发展新质生产力案例，则聚焦技术攻关、产学研、产业链协同、数智绿色改造、标准质量、人才机制六大方向遴选，生动展示国内民营企业阶段性创新成效。 “2”是两份重量级倡议发布。大会将发布《民营企业加强基础研究温州倡议》《全国工商联商会团体标准工作提质升级倡议》。一者鼓励民企提升原始创新能力，筑牢发展根基；一者打造优质团体标准引领产业高质量发展，营造良好生态，点面结合形成推动民营经济创新发展的“组合拳”。 中国(温州)数安港。主办方 供图 “3”是三大产业专题活动。精准对接浙江产业版图，力求将全国优质民企资源与地方生态深度耦合，形成民企创新力的乘数效应。新能源专场全链贯通——从锂电材料到风电装备，再到智慧能源解决方案，全景式呈现浙江“核风光水蓄氢储”的完整产业链优势；智能经济专场聚焦“AI+产业”落地，覆盖工业互联网安全、数据智能、人形机器人、产业互联网平台等数字生态关键节点，因地制宜推动数实融合；生命健康专场则锁定“脑机接口”与“精准营养”两大前沿赛道，以小切口撬动大孵化器集群的深层潜能，助力产业布局向高精尖跃升。 9月8日，与会嘉宾还将实地考察多个温州前沿科创、服务平台与标杆企业，在行走中感知创新脉动。 这场高规格、多维度、重实效的年度盛会，不仅是对民营经济创新发展成果的集中展示，更是面向未来的一次战略动员。免费人成视频X8X8入口APP温州8月28日电(邵燕飞 张益聪)东海之滨，瓯江之畔。2026民营经济创新发展大会暨知名民企助力浙江高质量发展活动9月8日—9日将在浙江温州盛大启幕。大会以“创新聚势·赋能未来”为主题，届时将云集全国头部民企掌门人、知名专家、顶尖科研机构及金融机构代表等600余位重量级嘉宾，共话创新之道、共谋增长新篇。 本届大会会址地——温州园博园中国馆。主办方 供图 当创新驱动跃升为高质量发展的核心引擎，民营企业正以科技为笔、以创新为墨，奋力书写新质生产力的时代答卷。本次大会实地考察、主旨大会、产业对接环环相扣，多项民企创新成果发布、项目落地，形成“1+3+2+3”的大会议程亮点。 “1”是一场主旨大会：9月9日上午，2026民营经济创新发展大会将在温州市园博园国际会议中心隆重举行，本次大会由全国工商联、浙江省人民政府共同主办，将汇聚国家部委、地方政府，以及产学研各方等众多重量级嘉宾，为民营经济擘画创新蓝图、注入澎湃动能。大会期间还将同步推出“浙里创新万物生长”成果展，全景展现浙江民营经济发展活力与创新生态优势。 “3”是大会将集中发布的三大权威成果：《2026研发投入前1000家民营企业创新状况报告》《2026民营企业研发投入、发明专利500家榜单》，以及“2026年民营企业发展新质生产力案例”，并同步启动民营经济标准创新周。 其中，《2026研发投入前1000家民营企业创新状况报告》围绕研发投入、创新载体、知识产权、标准化、转化应用、国际竞争六大维度对民营企业创新状况进行系统评估；民营企业发展新质生产力案例，则聚焦技术攻关、产学研、产业链协同、数智绿色改造、标准质量、人才机制六大方向遴选，生动展示国内民营企业阶段性创新成效。 “2”是两份重量级倡议发布。大会将发布《民营企业加强基础研究温州倡议》《全国工商联商会团体标准工作提质升级倡议》。一者鼓励民企提升原始创新能力，筑牢发展根基；一者打造优质团体标准引领产业高质量发展，营造良好生态，点面结合形成推动民营经济创新发展的“组合拳”。 中国(温州)数安港。主办方 供图 “3”是三大产业专题活动。精准对接浙江产业版图，力求将全国优质民企资源与地方生态深度耦合，形成民企创新力的乘数效应。新能源专场全链贯通——从锂电材料到风电装备，再到智慧能源解决方案，全景式呈现浙江“核风光水蓄氢储”的完整产业链优势；智能经济专场聚焦“AI+产业”落地，覆盖工业互联网安全、数据智能、人形机器人、产业互联网平台等数字生态关键节点，因地制宜推动数实融合；生命健康专场则锁定“脑机接口”与“精准营养”两大前沿赛道，以小切口撬动大孵化器集群的深层潜能，助力产业布局向高精尖跃升。 9月8日，与会嘉宾还将实地考察多个温州前沿科创、服务平台与标杆企业，在行走中感知创新脉动。 这场高规格、多维度、重实效的年度盛会，不仅是对民营经济创新发展成果的集中展示，更是面向未来的一次战略动员。